氮化鋁膜最早用化學氣相沉積(CVI)制備，其沉積溫度高達1000攝氏度以上。后來，通過采用等離子體增強化學氣相沉積，或用物理氣相沉積((PVD)方法，其沉積溫度逐步降到500攝氏度以下、甚至可以在接近室溫條件下沉積。

氮化鋁膜在微電子和光電子器件、襯底材料、絕緣層材料、封裝材料上有著十分廣闊的應用前景。由于它的聲表面波速度高，具有壓電性，可用作聲表面波器件。此外，氮化鋁還具有良好的耐磨損和耐腐蝕性能，可用作防護膜 。

氮化鋁(AIN)是AI-N二元系中唯一穩定的相，它具有共價鍵、六方纖鋅礦結構，在常壓下不能熔化，而是在2500K分解它的直接能帶間隙高達6.2eV，也可以通過摻雜成為寬帶隙半導體材料。氮化鋁的電阻率較高,熱膨脹系數低，硬度高，化學穩定性好但與一般絕緣體不同，它的熱導率也很高。氮化鋁在整個可見光和紅外頻段都具有很高的光學透射率。

氮化鋁膜是指用氣相沉積、液相沉積、表面轉化或其它表面技術制備的氮化鋁覆蓋層 。

大多數氮化鋁膜為多晶，但已在藍寶石基材上成功地外延生長制成單晶氮化鋁膜。此外，也曾沉積出非晶氮化鋁膜 。

為了縮短氮化周期，并使氮化工藝不受鋼種的限制，在近年間在原氮化工藝基礎上發展了軟氮化和離子氮化兩種新氮化工藝。

軟氮化實質上是以滲氮為主的低溫氮碳共滲，鋼的氮原子滲入的同時，還有少量的碳原子滲入，其處理結果與一般氣體氮化相比，滲層硬度較氮化低，脆性較小，故稱為軟氮化。

1、軟氮化方法分為：氣體軟氮化、液體軟氮化及固體軟氮化三大類。國內生產中應用最廣泛的是氣體軟氮化。氣體軟氮化是在含有活性氮、碳原子的氣氛中 進行低溫氮、碳共滲，常用的共滲介質有尿素、甲酰胺、氨氣和三乙醇胺，它們在軟氮化溫度下發生熱分解反應，產生活性氮、碳原子。活性氮、碳原子被工件表面 吸收，通過擴散滲入工件表層，從而獲得以氮為主的氮碳共滲層。

氣體軟氮化溫度常用560-570℃，因該溫度下氮化層硬度值最高。氮化時間常為2-3小時，因為超過2.5小時，隨時間延長，氮化層深度增加很慢。

2、氮化爐軟氮化層組織和軟氮化特點：鋼經軟氮化后，表面最外層可獲得幾微米至幾十微米的白亮層，它是由ε相、γ`相和含氮的滲碳體Fe3（C，N）所組成，次層為的擴散層，它主要是由γ`相和ε相組成 。

(1)、處理溫度低，時間短，工件變形小。

(2)、不受鋼種限制，碳鋼、低合金鋼、工模具鋼、不銹鋼、鑄鐵及鐵基粉未冶金材料均可進行軟氮化處理。工件經軟氮化后的表面硬度與氮化工藝及材料有關。

(3)、能顯著地提高工件的疲勞強度、耐磨性和耐腐蝕性。在干摩擦條件下還具有抗擦傷和抗咬合等性能。

(4)、由于軟氮化層不存在脆性ξ相，故氮化層因而具有一定的韌性，不容易剝落。

因此，生產中軟氮化已廣泛應用于模具、量具、刀具（如：高速鋼刀具）等、曲軸、齒輪、氣缸套、機械結構件等耐磨工件的處理。

鋁膜凹面鏡是在BK7的凹面基板上，真空鍍鋁而成的全反射鏡。

鋁膜凹面鏡是在BK7的凹面基板上，真空鍍鋁而成的全反射鏡。

實現把入射光束，聚焦在其反射方向。

此類凹面鏡從可見光到紅外，在很寬的光譜范圍都有高的反射率，而且，幾乎不受入射角度變化的影響。

可分為純鋁膜反射鏡和覆蓋了氟化鎂(MgF2)保護膜的鋁膜反射鏡。

氟化鎂(MgF2)保護膜防止劃傷及氧化。但其反射率要比純鋁膜低一些。2100433B