TCP刻蝕機的刻蝕分辨率:100nm;基片尺寸:2英寸、4英寸。
用于Si、GaN、藍寶石等材料的干法蝕刻。
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1 不銹鋼刻蝕 【摘要】 本文依據工業生產原理 ,設計了新的能處理較大面積工件的化學刻蝕裝置,研究 了實驗室條件下對不銹鋼進行圖紋裝飾的方法和工藝。 通過上感光材料、感光、刻蝕、 上色等工藝實現了不銹鋼的圖案刻蝕,成功地制作出一批作品。 【關鍵詞】 圖紋裝飾,不銹鋼板,感光材料,刻蝕。 Etching on Stainless Steel Sheet Zhao Libing Chen Peixian Li Jiahang Long Jieming Wang Junxia Liu Chang Zhang Zhijun Liu Xiaofang Lu Yujing Xie Guangbin L ü Xueyi (Class 99, School of Chemistry and Chemical Engineering, Sun Yat-Sen University, Guangzh
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干法刻蝕工藝總結 離子束刻蝕機( IBE-150A) 背景 : 利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子, 氬離子經過陽極電場的加速對樣品表面 進行物理轟擊, 以達到刻蝕的作用。 把 Ar、Kr 或 Xe之類惰性氣體充入離子源放 電室并使其電離形成等離子體, 然后由柵極將離子呈束狀引出并加速, 具有一定 能量的離子束進入工作室, 射向固體表面撞擊固體表面原子, 使材料原子發生濺 射,達到刻蝕目的,屬純物理過程。 技術指標: 裝片:一片六英寸襯底、或 1片四英寸,向下兼容。 抽氣速度: 30min由 ATM 到 1.0×10-3Pa 極限真空度: 2×10-4Pa 離子能量: 300eV-400eV ICP 刻蝕機( OXFORD ICP 180) 背景 : 通入反應氣體使用電感耦合等離子體輝光放電將其分解, 產生的具有強化學活性 的等離子體在電場的加速作用下移動到樣品表面, 對樣品表面既進行化學
ICP干法刻蝕系統。 2100433B
主要功能:等離子刻蝕是利用高頻輝光放電效應,使反應氣體激活成活性粒子,如原子或游離基,這些活性粒子擴散到需刻蝕部位,與被刻蝕材料進行反應,形成揮發性反應物而被去除。其優勢在于快速的刻蝕速率同時可獲得良好的物理形貌。
通過電感耦合等離子體輝光放電分解反應氣體,對樣品表面進行物理轟擊及化學反應生成揮發性氣體,達到刻蝕的目的。 2100433B