針對我國同步輻射與激光等離子診斷實驗對高分辨率X射線多層膜的需要，系統開展了高分辨率多層膜反射鏡的設計、制備以及檢測方法研究等。設計1～25 keV工作能量范圍的高分辨率多層膜；通過理論與實驗研究，解決了多層膜沉積速率修正、界面粗糙度、納米超薄多層膜的膜厚控制、應力等難題，掌握了X射線高分辨率多層膜制作的關鍵技術；建立了高分辨率多層膜性能的評價體系。特別是在沉積速率校正，界面平滑層研究，納米薄膜標記層方法研究等方面取得了創新成果，解決了關鍵科學與技術難題，制備了W/Si,Cr/C,W/B4C, WSi2/Si等一系列高分辨率多層膜單色器，取得了一系列研究成果。 采用WSi2/Si材料組合，研制了周期厚度2.2nm，膜對數N=300對的高分辨率多層膜單色器，在8keV的反射率為38%，分辨率為0.98%，接近理論值0.77%。采用B4C作為平滑層，顯著改善了Cr-Ti界面材料之間的擴散，成功把超薄膜層推進到1.0nm以下，實現了周期厚度只有1.38nm，膜對數600對的超薄高分辨率Cr/Ti多層膜制備，而且多層膜的熱穩定性顯著提高，同步輻射反射率測量、電子顯微鏡測試與退火實驗證明了膜層結構的顯著改善。采用標記層方法，成功解決了上千層，幾十微米厚的多層膜中每一層薄膜的精確定位。成功制備了周期厚度D分別為1.03nm，1.12nm,1.24nm和1.77nm的超薄W/B4C多層膜，在英國Diamond同步輻射光源與國外同類多層膜元件對比測試了1.24nm和1.77nm多層膜，結果優于或相當國際同行。為我國北京同步輻射實驗室4W1B光束線研制了15keV的高分辨率多層膜單色器，已經安裝在光束線上應用；為激光等離子體診斷實驗研究，提供了2.5keV和3.0keV的高分辨率多層膜單色器，獲得成功應用，替代了進口元件。 本項目的研究成果為我國同步輻射和激光稠密等離子診斷等實驗需要的高分辨率多層膜元件研制提供堅實的研究基礎和技術支撐，并在X射線天文觀測等領域有重要應用前景。 2100433B

高分辨率和高通量X射線單色器在X射線晶體衍射、X射線熒光分析、激光稠密等離子體診斷和X射線天文學等領域有重要應用。周期可調的多層膜不但能填補傳統光柵與天然晶體之間的波段空隙，而且具有光通量大、性能穩定、成本低和測量時間短等優點。但其最大限制是光譜分辨率低，因此，如何在保證多層膜反射率不變的情況下盡量提高多層膜光譜分辨率成為這一領域內新的研究熱點。高分辨率多層膜的研制將開創一些新的實驗方法，如用其構成的單色器在保證光譜分辨率的前提下，大大提高了X射線強度，使得測量蛋白質結構更加快速。本項目擬開展X射線高分辨率多層膜設計、制備與檢測方法研究，探索高光譜分辨多層膜的選材原則和設計準則，優化多周期數小周期多層膜制作的實驗參數，探尋高光譜分辨X射線多層膜結構和性能的檢測方法，實現高光譜分辨X射線多層膜的研制，為我國同步輻射和激光稠密等離子體診斷實驗等需求的單色器元件研制提供堅實的設計基礎和技術支撐。

怎樣根據需要去購置合適的，既經濟又實用的X射線探傷機，就必須正確地選擇X射線探傷機。一般選擇X射線探傷機都要考慮穿透能力、X射線管焦點大小、被檢工件形狀等。

X射線探傷機的穿透能力取決于X射線探傷機的容量，既X射線探傷機的管電壓，管電壓愈高，X射線愈硬，能量愈大，穿透能力就愈強，穿透能力與管電壓平方成正比。另外，在相同的管電壓下，還與被檢驗工件的材質的密度等性質有關,也就是與被檢驗工件對X射線的衰減能力有關。對于鋼鐵等重金屬以及較厚的工件，由于其對X射線的衰減能力較強，故應選擇管電壓較高的X射線探傷機；而對于鋁、鎂等輕金屬和較薄的工件，可以選擇管電壓較低的X射線探傷機。

對于圓形的工件，如鍋爐簡體或容器上的環焊縫，應首先考慮選擇周向曝光的射線探傷機，以提高工件效率，減輕勞動強度，減少放射線損傷。

對于工件較小，移動方便的，可選用移動式探傷機（固定式）X射線探傷機，而對工件笨重或高大設備，移動不方便，可選用攜帶式X射線探傷機。

X射線探傷機英文名稱X-ray Flaw Detector