新型光刻膠及玻璃刻蝕應用研究
格式:pdf
大小:16.2MB
頁數: 74頁
商品有機玻璃片微結構的深刻蝕研究
大小:483KB
頁數: 3頁
研究應用O2反應離子刻蝕(RIE)直接深刻蝕商用有機玻璃(PMMA)片,以實現微結構的三維微加工,工藝簡單,加工成本較低,為微器件的高深寬比加工提出了新方法。試樣采用Ni作掩膜,以普通的光刻膠曝光技術和濕法刻蝕法將Ni掩膜圖形化。工作氣壓、刻蝕功率等工藝參數對刻蝕速率影響較大。在刻蝕過程中,掩膜上的金屬粒子會被刻蝕氣體離子轟擊而濺射散落出來,形成微掩膜效應。利用這種RIE技術,在適當的濺射功率及氣壓下,刻蝕速率較快,且獲得了較陡直的微結構圖形,刻蝕深度達120μm。
刻蝕玻璃方程式知識來自于造價通云知平臺上百萬用戶的經驗與心得交流。 注冊登錄 造價通即可以了解到相關刻蝕玻璃方程式最新的精華知識、熱門知識、相關問答、行業資訊及精品資料下載。同時,造價通還為您提供材價查詢、測算、詢價、云造價等建設行業領域優質服務。手機版訪問:刻蝕玻璃方程式
? 2006- m.chyschool.com 粵ICP備08028283號 增值電信業務經營許可證:粵B2-20090350