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無土磚栽培技術在櫻桃西紅柿種植中的應用探討
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西紅柿無土栽培技術 前期準備 在溫室內挖寬 45厘米、深 30厘米的南北向栽培槽。 配置獨立的灌水系統，據筆者了解，主要采用的是滴灌設施。 用細砂和碳渣混合配成介質，二者只能是起到保水、保肥、透氣的 作用，按 31的比例配成栽培基質， 9月底浸種催芽，等大部分種子露白 后播種。 采用穴盤無土育苗，按草炭土、蛭石 21的比例配好基質， 1立方米 基質中加入 0.5 千克蛭石復合肥， 混勻后填入 72孔吸塑盤內，苗盤澆足 水后，每孔點播 1粒種子，覆蓋蛭石 1厘米厚，穴盤下面要與土壤隔開。 出苗前，溫度保持在 25～30℃，出苗后白天溫度保持在 22～25℃， 夜間 10～15℃，保持基質濕潤。約 30天后，當苗子有 3片真葉時定植。 定植 定植前，將栽培槽內的基質澆透水，水滲下后，在栽培槽內扒坑調 角定植，每個栽培槽定植 2行。基質略高于苗坨，株距 30厘米，每畝栽 3000株。 定植后的管
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