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為了研究希夫堿光亮劑DL01,DL02,DL03及添加劑Co(BF4)2在電鍍時的電化學行為,采用線性電位掃描測定了氟硼酸鹽光亮鍍錫溶液中加入各種新型添加劑后的極化曲線。結果表明,在含DL01或DL03的氟硼酸鹽鍍液中,Sn2+的還原峰電位分別為-0.230 V和-0.320 V;在含DL01,DL03及少量Co(BF4)2的氟硼酸鍍錫溶液中,Sn-Co共沉積峰電位為-0.210 V;Co(BF4)2促進了Sn2+的沉積,Sn-Co的共析是協同共沉積。
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用DL0 1、DL0 3作光亮劑 ,在氟硼酸鹽鍍液中 ,在不同電流密度和不同攪拌速度下 ,在Φ0 .5mm的銅線上 ,電鍍錫、錫 銅合金鍍層。結果表明 ,所得鍍層光亮、柔軟。
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