半導體生產含砷廢水處理回用工程
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采用沉淀法—電絮凝法—氣浮法—膜分離法四段組合工藝對含砷廢水進行處理,原水含砷180~230 mg/L,經該工藝處理后出水含砷99.9%.工程運行實踐證明:該系統運行穩定、處理效果高,產出的清水用作生產用循環冷卻水,大大降低了生產成本.
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