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介紹了垂直多結器件的結構,給出了熱遷移制結的工藝條件和結果,特別介紹了處理器件電極引線的隔離線方法,解決了經過熱遷移摻雜后光刻電極套不準的難題,以及把所有p型區(qū)域連接起來的問題,達到了敏感區(qū)金屬零遮擋的目的.同時分析了工藝條件對器件性能的影響.通過對敏感區(qū)和無效區(qū)的計算和對比,對器件的幾個電流參數(shù)進行了詳細的計算;對兩種靶材的標識譜在器件內產生的光電子的收集效率做了計算,對器件的光譜響應度也作了計算和分析;同時對器件窗口材料的選擇進行了詳細討論;最后敘述對器件進行的實驗驗證,通過對金屬模板上模擬缺陷的測量,證明器件有足夠的靈敏度和分辨率.
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