銅：純銅又稱紫銅，密度為8.94g/cm3，熔點為1083度，無磁性.有良好的導電，導熱性能及抗蝕性，還具有很高的化學穩定性.（銅的化合物都有毒.)

鉛：鉛又叫青鉛，外觀呈藍灰色.鉛的強度和硬度極低，能用發切斷，在常溫下加工不會產生加硬化現象.密度為11.34g/cm3，因密度較大，常用于制造彈頭.鉛的電阻大，導熱性差，熔點為327度，常用于制造保險絲.

錫：錫是銀白色而略帶藍色的金屬.其密度為7.2g/cm3，熔點為232度.錫的強度低，在室溫下沒有加工硬化的現象.錫的塑性極好，還具有很好的抗蝕性.

鎳：鎳是銀白色金屬，拋光后能長期保持美麗的光澤，密度為8.9g/cm3，熔點為1455度，在溫度低于360度時有磁性.鎳具有良好的電真空性能，在高溫高真空中揮發很小，是電真空儀器的重要材料.

銻：銻是銀白色金屬，由于雜質的影響，略帶藍色，雜質越多，藍色越深.純銻又叫星銻.很脆，無延展性，所以不單獨使用，銻的密度為6.7g/cm3，熔點為630度，凝固時略有膨脹，因此,銻主要用于與鉛錫等配制合金.

鋅：鋅是一種白色略帶淺藍色光澤金屬，在空氣中因氧化而呈灰色，密度為7.1g/cm3，熔點為419度.在常溫下很脆，但加熱到100-150度時，就變得富有韌性而易于進行壓力加工，溫度再升至200度時則脆性增高，可破碎成粉末.

汞：汞又叫水銀，銀白色.熔點為-38.87度，在常溫下為液體，密度為13.5g/cm3，常溫下最重的液體.汞不易氧化和腐蝕，廣泛用于氣壓計 溫度計等檢測儀器.

鉍：鉍的表面呈白色或粉紅色，密度為9.8g/cm3，熔點為277度，主要用于制造低熔點合金，藥物及化學試劑等.

硅：硅又稱工業硅或純硅，表面呈淡灰略帶藍色，有小孔洞，密度為2.42g/cm3.工業硅的主要用途是配制合金，制取多晶硅及有機硅等.

鈦：鈦屬于輕金屬，密度為4.5g/cm3，熔點比鐵和鎳都要高，為1668度，具有較高的熱強度.鈦是銀白色金屬.

鈷：鈷的表面呈深灰色，密度8.9g/cm3，主要用于制造合金及煉鋼添加元素 硬質合金粘結劑等.

鎘：鎘呈灰色，密度為8.65g/cm3，熔點為321度.主要用于電鍍 制造蓄電池等.

鎂：鎂為銀白色金屬（在空氣中容易氧化面發暗).密度小，只有1.74g/cm3，是工業用金屬最輕的金屬.熔點為651度，但在熔化時極易氧化燃燒.鎂的冷塑性變形能力較差.

鋁：鋁是一種銀白色金屬，具有面心立方晶格，沒有同素異構轉變，密度為2.7g/cm3,熔點為660度.具有良好的導電，導熱性能.

人們通常將那些基本上由一種金屬組成的材料或物質叫純金屬。

純金屬只有在現代科學 技術的基礎上，才有可能進行較大量的生產和使用，而且所謂純也只有相對意義，絕對的純是沒有的。純金屬隨其純度的不同可分為工業純金屬和化學純金屬兩類。工業上使用和生產的大多數屬于工業純金屬。化學純金屬需要用特殊方法和設備才能制出來，產量也有限，多用于科學研究、尖端技術或某些特殊生產領域 。

現在的科學技術已能制造出純度達99. 999%以上的純金屬，一些半導體材料的純度甚至可達到

然而，無論純度如何高，總或多或少地含有微量的其他元素。

純金屬的力學性能不高，以強度為例，純金屬的強度一般較低，鐵的抗拉強度約為200MPa，純鋁的抗拉強度約為100MPa，顯然不適合用于工程中各種結構的用材。加之純金屬種類有限，制取困難，價格相對較高，因此在各行業上應用較少。實際上，工程中使用的金屬材料都是合金，如碳鋼、合金鋼、鑄鐵、銅合金、鍆合金，尤其是鐵、碳為主要成份的合金。

依據雜質含量可分為工業純金屬和超純金屬。在生產實踐中，能得到的一些工業純常用有色金屬的百分純度為： 鋅99.995，鉛99.994，錫99.95，鎳99.99，鋁99.7等。

超純金屬的雜質含量在百萬分之幾數量級或主金屬含量在99. 9999%以上，而超純半導體材料的雜質含量在十億分之幾數量級。

純度的表示方法 實際使用中，習慣以主金屬含量的幾個九（N）來表示，如雜質含量一般是指規定的某些雜質之和為百萬分之一，即稱為6個 “9”或6N。

廣義的雜質是指化學雜質和物理雜質（結晶缺陷），后者是指位錯及空位等；而化學雜質則是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。但只有當金屬純度達到很高標準時（如純度9N以上的金屬），物理雜質的概念才是有意義的。

因此，目前工業生產的金屬仍是以化學雜質含量作為標準，其表示方法有兩種： 一種是以材料用途來表示，如 “光譜級純”、“電子級純”等；另一種是以某種特征來表示，如半導體材料用載流子濃度，即一立方厘米的基本元素中起導電作用的雜質數（原子/cm）來表示，而金屬則可用殘余電阻率（ρ4.₂K/ρ₃₀₀K）來表示，工業純金屬通常以主金屬的百分含量來表示。

純金屬的制取過程可以概括為兩種。

一是將金屬化合物經過沉淀、溶劑萃取、離子交換等得到純金屬化合物，然后將其還原成純金屬。如純金屬鈦，往往是TiCl4經精餾提純后再被還原成純的海綿鈦。

二是得粗金屬后，再提純成純金屬。提純方法有化學提純法和物理提純法兩類。

化學提純法主要有電解精煉、氧化精煉、氯化精煉、歧化冶金等。

物理提純法主要有區域提純、蒸餾、精餾精煉、拉制單晶、真空精煉等。

拉制單晶是用籽晶或自生籽晶從熔體中拉制出單晶體使金屬得到提純的方法。物理提純法設備簡單，操作方便，試劑污染少，可作為最終的提純手段。化學提純法靈活性大，選擇性強，但往往存在試劑玷污的缺點，在預提純和中間提純上得到廣泛應用。但在生產中，兩種方法往往相互配合使用。目前可以制備出純度達12個“9”的超高純鍺，也可制備7個“9”以上的高純硅、砷、鎵、銦等，這些高純金屬用作半導體工業材料。