中文名 | 多晶硅清洗機 | 產品類型 | 工業產品 |
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自動上料→去離子水 超聲波清洗 振動篩拋動→堿液 超聲波清洗 拋動→去離子水 超聲波清洗 拋動→堿液 超聲波清洗 拋動→堿液 超聲波清洗 拋動→去離子水 超聲波清洗 拋動 溢流→去離子水 超聲波清洗 拋動 溢流→自動下料
多晶硅超聲波清洗加工設備,可廣泛用于IC生產及半導體元器件生產中晶片的濕法化學工藝。該設備可有效去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破壞晶片表面特性。
爐前(RCA)清洗:擴散前清洗
光刻后清洗:除去光刻膠。
氧化前自動清洗:氧化前去掉硅片表面所胡的沾污物。
拋光后自動清洗:除去切、磨、拋的沾污。
外延前清洗:除去埋層擴散后的SiO2及表面污物。
合金前、表面鈍化前清洗:除去鋁布線后,表面雜質及光膠殘渣。
離子注入后的清洗:除去光刻膠,SiO2層。
擴散預淀積后清洗:除去預淀積時的BSG和PSG。
CVD后清洗:除去CVD過程中的顆粒。
附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物。
多晶硅超聲波清洗要結構特點:
1、采用三套獨立的電腦控制機械臂自動化作業
2、采用第三代最新技術,全面完善的防酸防腐措施,保護到機器每一個角落
3、最新全自動補液技術
4、獨特的硅片干燥前處理技術,保證硅片干燥不留任何水痕
5、成熟的硅片干燥工藝,多種先進技術集于一身
6、彩色大屏幕人機界面操作,方便參數設置多工藝方式轉換
高純多晶硅是電子工業和太陽能光伏產業的基礎原料,在未來的50年里,還不可能有其他材料能夠替代硅材料而成為電子和光伏產業主要原材料。隨著信息技術和太陽能產業的飛速發展,全球對多晶硅的需求增長迅猛,市場供...
多晶硅分為電子級和太陽能級。先說太陽能級的,是作為太陽能產業鏈的原料,用于鑄錠或拉單晶硅棒,在切成硅片,生產成太陽能電池板,就是衛星、空間站上的太陽能帆板,大部分還是用在建太陽能電站了,國內的太陽能電...
進入2017年后,多晶硅價格上漲趨勢放緩,但擴產潮仍在持續。照這個速度,到今年中期,國內多晶硅產能將達到25萬噸/年左右。屆時,下半年或陷入供大于求的局面,價格也會觸頂下滑。據前瞻發布的《中國...
多晶硅超聲波清洗機具有以下特點:
1、械手或多機械手組合,實現工位工藝要求。
2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面,操作便利。
3、自動上下料臺,準確上卸工件。
4、凈化烘干槽,獨特的烘干前處理技術,工作干燥無水漬。
5、全封閉外殼與抽風系統,確保良好工作環境。
6、具備拋動清洗功能,保證清洗均勻。
7、全封閉清洗均勻。
8、全封閉外殼與抽風系統,確保良好工作環境。
VGT-15204FST
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多晶硅工藝流程簡述 (改良西門子法及氫化) 氫氣制備與凈化工序 在電解槽內經電解脫鹽水制得氫氣。電解制得的氫氣經過冷 卻、分離液體后,進入除氧器,在催化劑的作用下,氫氣中的微量氧 氣與氫氣反應生成水而被除去。 除氧后的氫氣通過一組吸附干燥器而 被干燥。凈化干燥后的氫氣送入氫氣貯罐,然后送往氯化氫合成、三 氯氫硅氫還原、四氯化硅氫化工序。 電解制得的氧氣經冷卻、分離液體后,送入氧氣貯罐。出氧氣 貯罐的氧氣送去裝瓶。 氣液分離器排放廢吸附劑、 氫氣脫氧器有廢脫氧催化劑排放、 干 燥器有廢吸附劑排放,均供貨商回收再利用。 氯化氫合成工序 從氫氣制備與凈化工序來的氫氣和從合成氣干法分離工序返 回的循環氫氣分別進入本工序氫氣緩沖罐并在罐內混合。 出氫氣緩沖 罐的氫氣引入氯化氫合成爐底部的燃燒槍。 從液氯汽化工序來的氯氣 經氯氣緩沖罐, 也引入氯化氫合成爐的底部的燃燒槍。 氫氣與氯氣的 混合氣體在燃燒